电子质谱试验

检测项目

1.元素组成与含量分析：全元素定性筛查、特定主量元素定量、痕量及超痕量杂质元素定量。

2.同位素比值测定：稳定同位素丰度比测量、放射性同位素检测、同位素示踪分析。

3.表面与界面分析：表面元素分布成像、界面化学成分分析、薄膜厚度与成分剖析。

4.深度剖析：成分随深度分布分析、层间扩散研究、掺杂浓度剖面测量。

5.微区与缺陷分析：局部区域成分分析、颗粒物成分鉴定、缺陷处化学成分表征。

6.有机碎片与结构分析：有机分子裂解碎片分析、高分子材料添加剂鉴定、聚合物结构表征。

7.镀层与涂层分析：镀层成分与厚度测量、涂层均匀性测试、膜层结合界面研究。

8.掺杂与活化浓度分析：半导体中掺杂元素浓度测定、离子注入后活化率测试。

9.污染与失效分析：表面污染物鉴定、腐蚀产物分析、器件失效点的成分溯源。

10.地质与考古年代测定：岩石矿物定年、同位素地质温度计、文物产地溯源。

检测范围

硅片、砷化镓等半导体晶圆、金属及合金材料、陶瓷与玻璃材料、高分子聚合物颗粒、环境空气颗粒物滤膜、土壤与沉积物、水体中悬浮颗粒、生物组织切片、药物活性成分粉末、催化剂材料、考古陶器碎片、矿物岩石样本、金属镀层试样、集成电路芯片、光学薄膜涂层、纳米粉末材料、锂电池电极材料、焊接点与焊料、医用植入体材料

检测设备

1.飞行时间二次离子质谱仪：用于实现高质量分辨率的表面元素成像和深度剖析；具备高灵敏度及大分子离子检测能力。

2.磁扇形场二次离子质谱仪：用于高精度同位素比值测量和极低检出限的痕量元素分析；具备高传输效率和质量分辨率。

3.四极杆二次离子质谱仪：用于快速的表面扫描分析和动态深度剖析；操作相对简便，分析速度较快。

4.离子枪系统：用于溅射剥离样品表面原子，实现深度剖析；可分为液态金属离子枪和气体等离子体离子枪。

5.激光辅助离子源：用于降低基体效应并增强高分子有机物的离子化效率；可实现大分子和难挥发物的直接分析。

6.高灵敏度离子探测器：用于接收和放大由质量分析器分离后的离子信号；通常采用电子倍增器或法拉第杯。

7.高真空样品室与分析系统：为离子产生、传输和检测提供必要的超高真空环境；确保离子束路径无干扰。

8.电荷中和系统：用于分析绝缘样品时中和表面电荷积累；保障分析过程的稳定性和准确性。

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.