半导体指标纯度分析

检测项目

1.痕量金属元素分析：铁、铜、钠、钾、钙、镁、铝、镍、铬、锌、锰、钛等杂质元素含量。

2.非金属杂质分析：硼、磷、硫、氯、氟、碳、氧、氮等非金属元素含量。

3.颗粒污染分析：颗粒数量、粒径分布、大颗粒比例、可见异物、微粒污染水平。

4.水分含量分析：痕量水分、游离水、结合水、含湿水平、干燥程度测试。

5.有机杂质分析：有机残留、挥发性有机物、半挥发性有机物、烃类杂质、溶剂残留。

6.阴阳离子杂质分析：钠离子、铵离子、氯离子、硝酸根、硫酸根、磷酸根等离子杂质含量。

7.气体纯度分析：主体组分含量、氧含量、氮含量、二氧化碳含量、烃类杂质含量。

8.表面污染分析：表面金属残留、表面离子污染、表面有机污染、薄膜污染、颗粒附着情况。

9.化学组成分析：主成分含量、杂质总量、组成比例、元素分布、组分均匀性。

10.纯度等级测试：总杂质水平、关键杂质控制值、批次一致性、纯度稳定性、等级判定。

11.挥发性成分分析：低沸点杂质、高沸点残留、挥发损失、逸散组分、热释放杂质。

12.酸碱及腐蚀性杂质分析：酸性残留、碱性残留、腐蚀性离子、反应性杂质、腐蚀风险物质。

检测范围

高纯硅料、半导体硅片、外延片、光刻胶、显影液、剥离液、蚀刻液、清洗液、抛光液、电子特气、高纯氮气、高纯氩气、高纯氢气、高纯氧气、工艺用水、靶材、封装材料、掺杂源材料、石英器件、晶圆表面残留物

检测设备

1.电感耦合等离子体质谱仪：用于痕量及超痕量金属元素分析，适合多元素同时测定和低含量杂质筛查。

2.电感耦合等离子体发射光谱仪：用于多种金属元素含量测定，适用于常量和微量杂质分析。

3.离子色谱仪：用于阴离子和阳离子杂质检测，可分析无机离子污染水平与残留情况。

4.气相色谱仪：用于挥发性组分和气体杂质分析，适合检测有机残留及低分子杂质。

5.液相色谱仪：用于分离和测定非挥发性有机杂质，适用于复杂样品中的有机污染分析。

6.质谱仪：用于未知杂质定性与定量分析，可辅助开展痕量污染物识别和组成解析。

7.卡尔费休水分测定仪：用于痕量水分含量检测，适合高纯化学品和工艺材料的水分控制分析。

8.激光粒子计数器：用于颗粒数量和粒径分布测定，可测试液体或气体中的微粒污染水平。

9.总有机碳分析仪：用于测定样品中有机碳总量，适合测试有机污染和清洁度水平。

10.扫描电子显微镜：用于观察颗粒形貌、表面污染和微观缺陷，可辅助开展颗粒来源分析与表面洁净度测试。

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.