检测项目
1.元素成分分析:碳、硅、锰、铬、镍、钼、钛、铝、铜、铁、钒、钨、钴、铌、锆、铪、钽、铼、钇、镧等。
2.杂质元素检测:硫、磷、氧、氮、氢、砷、锑、铋、铅、锡、镉、汞、硒、碲、铊、铀、钍、铍等。
3.相组成分析:奥氏体、铁素体、马氏体、碳化物、金属间化合物、析出相、共晶组织、非晶相、晶体缺陷、晶界相、亚稳相等。
4.微观结构分析:晶粒尺寸、相分布、夹杂物、析出相形态、界面结构、孔隙率、裂纹、织构、位错密度、孪晶等。
5.表面成分分析:氧化层、涂层、镀层、腐蚀产物、污染元素、吸附物、磨损颗粒、表面改性层、钝化膜等。
6.痕量元素分析:铍、镉、汞、硒、碲、铊、铀、钍、钚、镭、氡、氚、氦、氖等。
7.气体元素分析:氧、氮、氢、氦、氩、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、乙烷、丙烷等。
8.同位素分析:铀同位素、钚同位素、稳定同位素、放射性同位素、氘、氚、碳十四、钾四十、铯一三七等。
9.有机成分分析:聚合物、树脂、添加剂、溶剂、残留单体、塑化剂、抗氧化剂、交联剂、催化剂、降解产物等。
10.无机成分分析:氧化物、氮化物、碳化物、硅酸盐、磷酸盐、硫酸盐、碳酸盐、卤化物、硫化物、氢氧化物等。
11.材料纯度分析:高纯金属、半导体材料、超导材料、陶瓷材料、玻璃材料、单晶材料、纳米材料、复合材料等。
12.合金成分分析:铝合金、钛合金、镍基合金、钴基合金、铜合金、镁合金、锆合金、铌合金、钽合金、钨合金等。
13.复合材料分析:纤维含量、基体成分、界面结合、增强相分布、孔隙率、层间剪切、纤维取向、界面反应、热膨胀匹配等。
14.涂层成分分析:热障涂层、抗氧化涂层、耐磨涂层、防腐涂层、导电涂层、绝缘涂层、光学涂层、生物涂层、纳米涂层等。
15.失效分析:腐蚀产物、疲劳裂纹、断裂面、磨损颗粒、污染源、氧化皮、脱碳层、氢脆区、应力腐蚀区等。
检测范围
钛合金、铝合金、镁合金、镍基高温合金、钴基合金、不锈钢、高强度钢、复合材料、陶瓷材料、聚合物材料、涂层材料、焊接材料、紧固件、轴承材料、密封材料、热防护材料、结构件、发动机部件、机翼材料、机身蒙皮
检测方法/标准
国际标准:
ASTM E1251、ASTM E1010、ASTM E1085、ISO 5725、ISO 17025、ISO 11885、ISO 17294、ISO 17378、ISO 17852、ISO 18118、ISO 21587、ISO 22963、ISO 23507、ISO 26142、ISO 26845、ISO 26985
国家标准:
GB/T 223、GB/T 20125、GB/T 4336、GB/T 11170、GB/T 12689、GB/T 13748、GB/T 14203、GB/T 15247、GB/T 15248、GB/T 16597、GB/T 17359、GB/T 17433、GB/T 18876、GB/T 19077、GB/T 19502、GB/T 20066、GB/T 20123、GB/T 20124、GB/T 20127、GB/T 20899、GB/T 20975、GB/T 22368
检测设备
1.火花源原子发射光谱仪:用于快速分析金属元素含量;高精度,多元素同时检测,适用于合金样品。
2.X射线荧光光谱仪:非破坏性分析固体、液体样品成分;元素范围广,操作简便,结果稳定。
3.电感耦合等离子体原子发射光谱仪:检测痕量元素及多元素组成;灵敏度高,线性范围宽,可用于复杂基质。
4.扫描电子显微镜:观察微观形貌及元素分布;高分辨率成像,配合能谱分析。
5.透射电子显微镜:分析晶体结构及纳米尺度成分;电子衍射模式,高倍率观察。
6.X射线衍射仪:确定物相组成及晶体结构;非破坏性测试,适用于粉末或块状样品。
7.气体分析仪:测量样品中氧、氮、氢等气体含量;热导检测,快速响应。
8.热重分析仪:测试材料热稳定性及成分变化;温度程序控制,质量损失监测。
9.辉光放电质谱仪:用于高纯材料痕量杂质分析;深度剖析能力,检测限低。
10.激光诱导击穿光谱仪:快速现场成分分析;无需样品制备,适用于多种形态。
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。