检测项目
三氯化钨(WCl
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纯度分析:主成分含量的精准测定
杂质检测:包括氯离子残留、重金属杂质(Pb、As、Cd等)
物理特性:粒度分布、比表面积、堆积密度
化学性质:水解稳定性、氧化还原特性
应用性能:催化活性、反应产物选择性
检测范围
| 应用领域 | 检测重点 | 标准依据 |
| 电子工业 | 高纯度要求(≥99.99%) | ASTM E2857 |
| 化工催化剂 | 表面活性/孔结构分析 | ISO 18757 |
| 金属涂层 | 氯离子残留量 | GB/T 23942 |
| 科研材料 | 晶型结构表征 | JIS K0551 |
检测方法
1. 化学分析法
采用电位滴定法测定氯含量,通过硝酸银标准溶液进行终点判定,检测限可达0.01%
2. 光谱技术
ICP-OES:多元素同步检测,检测范围0.1ppm-10%
XRD:晶型结构分析,2θ角度范围10°-80°
3. 热分析
TG-DSC联用技术:在氮气氛围下以10℃/min升温,测定分解温度区间(通常200-400℃)
检测仪器
电感耦合等离子体发射光谱仪
型号:iCAP PRO XP
检测限:0.05ppm(W元素)
X射线衍射仪
型号:Bruker D8 ADVANCE
角度精度:±0.0001°
全自动电位滴定仪
型号:Metrohm 905
分辨率:0.1μL
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。