散射强度检测

检测项目

表面粗糙度散射：Ra 0.1-10μm | Rz 0.5-50μm | 空间波长λ=0.5-200μm

颗粒粒径分布：检测范围10nm-3mm | 多分散指数PDI≤0.7 | 体积/数量加权分布

材料折射率梯度：n值范围1.3-2.8 | 测量精度±0.001 | 温度稳定性±0.0005/℃

界面散射系数：SC值0.01-0.95 | 入射角5°-85° | 偏振灵敏度0.1°

各向异性参数：g因子(-1至1) | Mueller矩阵全要素分析 | 相位延迟测量精度λ/1000

检测范围

金属合金材料：铝合金表面氧化层、钛合金微结构、贵金属薄膜（金/银/铂）

高分子材料：聚碳酸酯光学件、硅橡胶界面、PTFE多孔结构

先进陶瓷材料：氧化锆齿科陶瓷、氮化硅轴承球、压电陶瓷晶界

光学薄膜系统：AR/IR镀膜、ITO导电膜、介电镜堆栈结构

复合材料：碳纤维/环氧树脂界面、陶瓷基复合材料(CMC)、光子晶体

检测方法

激光散射法：ASTM E2387-21 表面散射特性标准 | ISO 13696 光学元件散射测量

动态光散射(DLS)：ISO 22412:2017 纳米颗粒粒径分析 | 21 CFR Part 11合规模式

X射线散射(SAXS/WAXS)：ISO 17867:2020 小角散射标准 | JIS K 0131通用规范

椭偏散射测量：ASTM E2729-19 材料光学常数测定 | Mueller矩阵全域分析法

布里渊散射光谱：ISO 20343:2017 材料弹性模量检测 | 频移分辨率±10MHz

检测设备

激光散射仪：Malvern Mastersizer 3000，配备Hydro MV湿法模块，检测范围10nm-3.5mm

X射线衍射系统：Bruker D8 ADVANCE，配置VÅNTEC-500二维探测器，支持GI-SAXS模式

纳米颗粒分析仪：Horiba LB-550动态光散射仪，温控范围5-90℃，符合USP<729>要求

全自动椭偏仪：J.A. Woollam M-2000XI，光谱范围245-1700nm，入射角15-90°连续可调

超分辨散射系统：Zygo NewView 9000，垂直分辨率0.1nm，横向分辨率0.4μm

技术优势

获得CNAS(ISO/IEC 17025)和CMA双重认证，检测报告国际互认

配备Class 1000洁净检测环境，温控精度±0.5℃，湿度波动≤3%RH

技术团队含5名ASQ认证质量工程师，累计完成1200+项军工级检测项目

设备溯源至NIST标准物质，年校准周期≤6个月，测量不确定度优于0.8%

自主研发散射数据分析系统，具备FDA 21 CFR Part 11电子签名功能

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.