CMA资质
CMA资质
cnas资质
cnas资质
cnas资质
cnas资质
高新技术企业证书
高新技术企业证书

晶圆检测

原创
发布时间:2025-06-16 17:34:56
最近访问:
阅读:
字体大小: || || || 复原

检测项目

表面完整性检测:

  • 颗粒污染:尺寸≥0.05μm(SEMIM52),密度≤0.01/cm²
  • 表面缺陷:划痕深度≤0.2μm(SEMIMF1543),凹坑密度≤3/mm²
  • 粗糙度参数:Ra≤0.1nm(ISO4287)
薄膜特性检测:
  • 膜厚测量:偏差±1.5%(SEMIMF92),均匀性>98.5%
  • 折射率/消光系数:精度±0.001(椭圆偏振法ASTME1331)
  • 应力测试:范围±500MPa(激光曲率法SEMIMF1390)
几何尺寸检测:
  • 厚度均匀性:TTV≤1μm(GB/T26068)
  • 翘曲度:≤20μm(SEMIM1)
  • 边缘轮廓:崩边≤15μm(SEMIM43)
电性参数检测:
  • 电阻率:0.001-100Ω·cm(四探针法ASTMF76)
  • 少子寿命:≥300μs(微波光电导衰减GB/T1551)
  • 氧化层击穿电压:≥10MV/cm(JESD35)
图形结构检测:
  • 关键尺寸(CD):偏差±2.5nm(CD-SEMSEMIP35)
  • 套刻精度:≤3.5nm(ISO14644)
  • 线边缘粗糙度:≤1.2nm(RMS)
化学成分分析:
  • 金属杂质:Fe≤1E10atoms/cm²(VPD-ICPMS)
  • 氧碳含量:O≤16ppma(FTIRASTMF1188)
  • 表面元素:污染浓度≤1E13atoms/cm²(TXRF)
晶体质量检测:
  • 位错密度:≤500/cm²(蚀刻法GB/T1550)
  • 滑移线检测:零允许(XRD衍射法SEMIMF1724)
  • 晶向偏差:±0.15°(劳厄法ASTMF26)
洁净度验证:
  • 有机污染物:≤1ng/cm²(GC-MS)
  • 离子污染:Na≤5E10atoms/cm²(IC)
机械性能检测:
  • 断裂强度:≥1.2GPa(三点弯曲法ASTMF394)
  • 杨氏模量:130±10GPa(纳米压痕法ISO14577)
热性能检测:
  • 热膨胀系数:2.6±0.1×10⁻⁶/K(TMA法GB/T20671)
  • 热导率:≥150W/mK(激光闪射法ASTME1461)

检测范围

1.单晶硅抛光片:涵盖150-300mm直径,侧重COP缺陷检测与局部平整度控制

2.SOI晶圆:埋氧层厚度(10-200nm)检测及界面态密度分析

3.外延片:外延层厚度(0.5-50μm)均匀性及位错密度测试

4.化合物半导体晶圆:GaAs/GaN基材缺陷映射及组分分布均匀性

5.光掩模基板:透光率>98%(193nm)及相位缺陷扫描

6.太阳能级硅片:少数载流子寿命及内部量子效率测试

7.应变硅晶圆:应力分布图(拉曼光谱法)及迁移率增益验证

8.低温多晶硅基板:晶粒尺寸分布(>1μm)及边界缺陷统计

9.硅晶锭:电阻率径向梯度<5%及氧沉淀浓度分析

10.三代半导体衬底:SiC晶圆微管密度≤5cm⁻²,表面台阶高度≤0.5nm

检测方法

国际标准:

  • SEMIM1-0718硅单晶抛光片规范
  • SEMIMF1530非接触电阻率测试
  • ASTMF1241晶向X射线测定
  • ISO14707辉光放电质谱表面元素分析
国家标准:
  • GB/T26150-2010硅片几何尺寸测试
  • GB/T30869-2014半导体晶片表面洁净度检测
  • GB/T32279-2015硅片翘曲度测试方法
  • GB/T40563-2021碳化硅单晶抛光片规范
(方法差异说明:SEMIMF1530采用四探针双配置,GB/T26150要求五点厚度测量;ASTMF1241规定X射线入射角±0.1°精度,国标允许±0.3°)

检测设备

1.表面扫描检测仪:KLASurfscanSP5(激光波长355nm,检测下限0.065μm)

2.椭偏测量仪:J.A.WoollamM2000UI(光谱范围190-1700nm,膜厚分辨率0.01Å)

3.原子力显微镜:BrukerDimensionIcon(扫描范围90μm,Z轴分辨率0.1nm)

4.四探针测试仪:KyenceRCP-T600(电阻率范围0.0001-10000Ω·cm)

5.临界尺寸扫描电镜:HitachiCG5000(电子束加速电压800V,分辨率0.6nm)

6.X射线衍射仪:RigakuATX-G(角度重复性±0.0001°,晶向精度0.005°)

7.全自动晶圆探针台:FormFactorCM300Xi(定位精度±0.25μm)

8.飞行时间二次离子质谱仪:IONTOFTOF.SIMS5(质量分辨率>20000m/Δm)

9.傅里叶红外光谱仪:ThermoNicoletiN10(波数范围7500-350cm⁻¹,分辨率0.09cm⁻¹)

10.X射线荧光分析仪:RigakuZSXPrimusIV(元素检测范围B-U)

11.纳米压痕仪:KeysightG200(载荷分辨率0.01nN,位移分辨率0.003nm)

12.激光闪光热导仪:NetzschLFA467(温度范围RT-2800℃,热扩散率精度±3%)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.

合作客户(部分)

1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;

2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;

3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;

4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。

合作客户

上一篇: 往复油封检测
下一篇: 插秧机检测
返回列表