检测项目
1.薄膜厚度测量:分辨率0.1nm,测量范围5nm-500μm
2.表面粗糙度分析:Ra值检测精度0.05nm(1μm1μm区域)
3.折射率测定:精度0.0005(波长范围400-1700nm)
4.多层膜结构解析:支持最多50层膜系分析
5.界面缺陷检测:可识别≥50nm的微裂纹与分层缺陷
检测范围
1.半导体材料:硅晶圆外延层、III-V族化合物薄膜
2.光学镀膜:抗反射膜、高反射镜、滤光片
3.聚合物薄膜:PET阻隔层、LCD偏光膜功能涂层
4.金属涂层:磁控溅射铝膜、PVD硬质镀层
5.生物薄膜:药物缓释涂层、生物传感器敏感膜
检测方法
ASTMF2459-05(2020):光学薄膜厚度测量标准方法
ISO14782:2021:非金属材料透射率干涉测试规范
GB/T26323-2010:光学功能薄膜折射率测试通则
ISO25178-604:2013:表面纹理干涉测量实施规程
GB/T38823-2020:柔性显示基材薄膜特性测试指南
检测设备
1.ZygoNewView9000:白光干涉三维表面形貌仪,垂直分辨率0.1nm
2.FilmetricsF20:宽光谱反射式膜厚测量系统(190-1700nm)
3.BrukerContourGT-X3:动态干涉显微成像系统,支持100mm晶圆全检
4.KLA-TencorSpectraFilmF1:半导体专用在线膜厚监测仪
5.ShimadzuAIM-9000:红外干涉镀层分析系统(2-25μm波段)
6.OlympusLEXTOLS5000:激光共聚焦干涉显微镜,XYZ三轴纳米定位
7.NanometricsAtlas-M:多波长椭偏干涉集成系统
8.VeecoNT9800:相移干涉仪,支持300mm晶圆级测量
9.HoribaUVISEL2:宽光谱可变角干涉椭偏仪(190-2100nm)
10.TaylorHobsonCCIHD:非球面光学元件专用干涉分析系统
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。