电子束蒸发法检测

检测项目

1.膜层厚度测量：精度0.5nm（0.1-10μm范围），采用椭圆偏振仪与台阶仪双重验证

2.沉积速率控制：0.1-50/s动态监测精度2%

3.基底温度监控：200-800℃范围内3℃温度均匀性

4.残余气体分析：真空腔体极限真空≤510^-7Torr

5.表面粗糙度测试：原子力显微镜（AFM）Ra≤0.3nm

6.元素成分分析：EDS能谱仪检测纯度≥99.99%

7.应力测试：激光干涉法测量应力值≤500MPa

检测范围

1.半导体材料：Al/Ti/W金属电极层、SiO₂/Si₃N₄绝缘层

2.光学薄膜：ZnS/MgF₂多层增透膜、ITO透明导电膜

3.金属涂层：Au/Pt贵金属生物传感器涂层、Al/NiCr电阻薄膜

4.陶瓷材料：Al₂O₃/TiO₂耐磨涂层、YBCO超导薄膜

5.聚合物薄膜：Parylene-C防护层、PTFE疏水涂层

检测方法

ASTMF1048-18《StandardTestMethodforMeasuringThicknessofThinFilms》

ISO14707:2015《Surfacechemicalanalysis-Glowdischargeopticalemissionspectrometry(GD-OES)》

GB/T16595-2017《微电子技术用金属薄膜电阻器通用规范》

ISO21283:2018《Fineceramics(advancedceramics,advancedtechnicalceramics)-Determinationofspecificsurfacearea》

GB/T3505-2020《产品几何技术规范(GPS)表面结构轮廓法术语定义及表面结构参数》

ASTME112-13《StandardTestMethodsforDeterminingAverageGrainSize》

检测设备

1.KurtJ.LeskerLAB18e-beam蒸发系统：配备4-pocket坩埚，最大功率10kW

2.VeecoMarkII离子束溅射系统：集成原位厚度监控模块

3.BrukerDektakXT台阶仪：垂直分辨率0.1，扫描长度55mm

4.Agilent5500AFM系统：非接触模式分辨率0.2nm

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.