检测项目
1.膜层厚度:测量范围50nm-10μm,精度1.5%,采用台阶仪与椭偏仪双系统校准
2.附着力强度:划痕法测试临界载荷(Lc值),压痕法测试结合强度等级
3.元素成分分析:EDS能谱仪测定元素含量(精度0.1at%),XPS分析化学态分布
4.表面粗糙度:AFM扫描1010μm区域Ra值(分辨率0.1nm)
5.方阻测试:四探针法测量电阻率(量程10-3-106Ωcm)
6.光学性能:分光光度计测量400-2500nm波段透过率/反射率(精度0.5%)
检测范围
1.金属功能薄膜:Al/Cu/Ti靶材制备的导电膜(厚度200-500nm)
2.氧化物薄膜:ITO、AZO等透明导电氧化物(TCO)镀层
3.氮化物硬质涂层:TiN/AlCrN耐磨镀层(硬度≥20GPa)
4.多层复合膜系:Al2O3/TiO2光学干涉膜(层数≥15)
5.半导体薄膜:SiC/GaN外延层(缺陷密度≤103/cm2)
6.柔性基材镀膜:PET/PC基材金属化处理(弯折次数≥5000次)
检测方法
ASTMB933-21《金属涂层附着力标准测试方法》划痕试验规范
ISO14707:2015《辉光放电光谱法化学成分分析通则》
GB/T16535-2008《精细陶瓷薄膜厚度测试方法》接触式测量标准
ISO25178-2:2022《表面纹理三维表征》非接触式轮廓测量要求
GB/T13301-2019《金属覆盖层电阻测试方法》四探针法实施规范
ASTMF1048-2020《透明导电膜光学性能测试标准》
检测设备
1.BrukerDektakXT台阶仪:垂直分辨率0.1nm,最大扫描长度55mm
2.ThermoFisherESCALABXi+XPS系统:单色AlKα源(1486.6eV)
3.Agilent5500AFM:ScanAsyst模式自动表面形貌分析
4.KeysightE5063A阻抗分析仪:频率范围20Hz-3GHz电阻测试
5.ShimadzuUV-3600iPlus分光光度计:三探测器DUBO光学系统
6.CSMRevetest划痕仪:最大载荷50N,声发射信号同步采集
7.OxfordInstrumentsX-MaxNEDS探测器:50mm能谱采集面积
8.FourDimensions4DModel280SI四探针台:自动间距调节系统
9.ZygoNewView9000白光干涉仪:0.1nm垂直分辨率表面粗糙度分析
10.HitachiSU5000热场发射电镜:1nm分辨率镀层截面观测
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自改制以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。