二氧化钨检测

检测项目

1.纯度分析：采用XRF/XRD测定WO₂含量≥99.5%，杂质元素总量≤0.3%
2.粒度分布：激光衍射法测定D10≤0.8μm，D50=1.2-2.5μm，D90≤4.0μm
3.比表面积：BET法测试范围3-15m/g，孔隙率控制在15-35%
4.晶体结构：XRD半峰宽≤0.15，晶格常数a=4.850.02
5.氧含量：惰性熔融法测定氧钨比1.95-2.05

检测范围

1.催化剂材料：汽车尾气处理SCR催化剂载体
2.陶瓷材料：高温结构陶瓷基体组分
3.电子材料：半导体薄膜溅射靶材
4.涂层材料：航空发动机热障涂层原料
5.储能材料：锂离子电池负极改性材料

检测方法

1.GB/T4325-2013《钨化学分析方法》
2.ISO20203:2017X射线衍射定量相分析
3.ASTME1941-10惰性气体熔融氧测定法
4.GB/T19077-2016粒度分布激光衍射法
5.ISO9277:2010BET比表面测试规范

检测设备

1.X射线衍射仪（RigakuSmartLab）：物相定量分析
2.激光粒度仪（MalvernMastersizer3000）：粒径分布测试
3.比表面分析仪（MicromeriticsASAP2460）：BET比表面积测定
4.X荧光光谱仪（ShimadzuEDX-7000）：元素成分分析
5.氧氮氢分析仪（LECOONH836）：氧含量精确测定
6.场发射电镜（FEINovaNanoSEM450）：微观形貌表征
7.热重分析仪（NETZSCHSTA449F3）：热稳定性测试
8.ICP-MS（Agilent7900）：痕量杂质元素检测

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.