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表面活性剂去污力试验

原创
关键字: 表面活性剂去污力试验测试范围,表面活性剂去污力试验测试案例,表面活性剂去污力试验测试标准
发布时间:2025-06-26 17:30:16
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检测项目

清洁性能检测:

  • 去污率:污渍去除百分比≥90%(参照ISO2267:2019)
  • 乳化能力:乳化指数≥0.8
  • 泡沫稳定性:衰减率≤10%
物理性质检测:
  • 表面张力:临界值≤30mN/m
  • 粘度:变化范围±5%
化学成分分析:
  • 活性物含量:≥15%(参照GB/T5174-2008)
  • pH值:6.0-8.0
  • 水分含量:≤0.5%
生物降解性检测:
  • 降解率:≥90%in28天
  • BOD5值:≥60%理论值
安全性检测:
  • 皮肤刺激性:评分≤1.0
  • 眼刺激性测试:无角膜损伤
稳定性检测:
  • 热稳定性:耐受≥50°C
  • 冻融稳定性:无分层或沉淀
环境毒性检测:
  • EC50值:≥100mg/L
  • 生物累积性:BCF≤100
残留量检测:
  • 洗涤残留:总量≤10ppm
  • 重金属残留:Pb≤1ppm
兼容性检测:
  • 硬水兼容性:钙离子耐受≥100mg/L
  • 电解质稳定性:无絮凝现象
储存性能检测:
  • 保质期:≥2年
  • 颜色稳定性:ΔE≤3.0

检测范围

1.家用洗涤剂:液体洗衣剂和餐具洗涤剂,重点检测去污率和皮肤安全性。

2.工业清洗剂:金属脱脂剂和油污去除剂,侧重乳化能力和腐蚀性测试。

3.个人护理产品:洗发水和沐浴露,检测泡沫稳定性和温和性。

4.餐具洗涤剂:厨房清洁剂,重点测试去油脂效率和残留量。

5.纺织助剂:织物柔软剂和去污剂,检测柔软效果和生物降解性。

6.农药乳化剂:农药制剂助剂,侧重乳化稳定性和环境毒性。

7.化妆品:乳液和面霜,检测乳化性能和安全性参数。

8.食品工业清洗剂:食品接触表面清洁剂,重点测试残留限值和食品安全性。

9.汽车清洗剂:车漆和引擎清洁剂,检测去污力及材料兼容性。

10.医疗清洗剂:医疗器械消毒剂,侧重杀菌效果和残留控制。

检测方法

国际标准:

  • ISO2267:2019表面活性剂去污力测定方法
  • ASTMD1173-07泡沫高度及稳定性测试
  • ISO10634:2018生物降解性测试方法
国家标准:
  • GB/T13173-2021表面活性剂去污力试验方法
  • GB/T5173-2018表面张力测定法
  • GB/T15818-2006生物降解性测试方法
方法差异包括:ISO2267使用标准炭黑污布,GB/T13173采用棉布污渍模拟差异;ASTMD1173泡沫测试设定特定振荡频率,而GB标准调整静态泡沫高度测定。

检测设备

1.洗涤测试机:Terg-O-Tometer(转速范围60-200rpm)

2.分光光度计:UV-Vis分光光度计(波长200-800nm)

3.表面张力计:动态表面张力仪(精度±0.1mN/m)

4.pH计:数字pH计(分辨率0.01)

5.恒温箱:恒温培养箱(温度控制0-80°C)

6.离心机:高速离心机(转速10000rpm)

7.粘度计:旋转粘度计(测量范围1-10000cP)

8.显微镜:金相显微镜(放大倍数100-1000x)

9.高效液相色谱仪:HPLC系统(检测限0.01%)

10.气相色谱仪:GC分析仪(挥发物检测范围0.1-100ppm)

11.生物降解测试装置:BOD测定仪(氧消耗量精度±2%)

12.皮肤刺激性测试设备:人工皮肤模型系统(评分分辨率0.1)

13.稳定性测试仪:冻融循环箱(温度波动±1°C)

14.残留分析仪:GC-MS联用仪(质谱检测限0.001ppm)

15.乳化性能测试仪:界面张力计(精度±0.5mN/m)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.

内容-荣誉资质

其他证书详情(可咨询在线工程师):

荣誉资质 国防经济发展促进会 AAA级信用证书

合作客户(部分)

1、自改制以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;

2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;

3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;

4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。

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