检测项目
1.蚀刻因子测试:通过测量蚀刻后线路宽度与深度比值,测试蚀刻均匀性和一致性,确保线路精度符合设计要求。
2.侧蚀量测试:检测蚀刻过程中线路侧壁侵蚀程度,分析蚀刻液对非目标区域的攻击性,优化工艺参数。
3.线宽精度测量:使用高倍显微镜或自动测量系统,量化蚀刻后线路实际宽度与设计值偏差,保障电路电气性能。
4.蚀刻速率测定:记录蚀刻时间与铜层去除厚度关系,计算平均蚀刻速率,为生产效率提供数据支持。
5.表面粗糙度分析:采用轮廓仪或原子力显微镜,测试蚀刻后铜箔表面平滑度,减少信号传输损耗。
6.抗剥强度测试:通过剥离试验机测量蚀刻后铜层与基材结合力,确保后续加工中不出现分层问题。
7.分辨率测试:测试蚀刻工艺能实现的最小线宽和间距,通过标准测试图形验证工艺极限。
8.缺陷检测:利用自动光学检测系统或手动显微镜,识别蚀刻过程中短路、断路、针孔等缺陷,提高成品率。
9.化学残留分析:采用离子色谱或X射线荧光光谱,检测蚀刻后板面残留化学物质,防止腐蚀或电气故障。
10.环境适应性测试:在温湿度循环箱中模拟不同环境条件,测试蚀刻性能稳定性与耐久性。
检测范围
1.单面板蚀刻工艺:适用于简单电路设计,检测重点在线路精度和蚀刻均匀性,确保基本功能实现。
2.双面板蚀刻工艺:涉及通孔连接,需测试两面蚀刻一致性及孔壁质量,防止连接失效。
3.多层板蚀刻工艺:复杂结构,检测内层蚀刻质量、层间对准和介质层完整性,保障高密度互连。
4.柔性电路板蚀刻:使用聚酰亚胺等柔性材料,测试在弯曲条件下蚀刻精度保持能力。
5.高频电路板蚀刻:针对射频和微波应用,检测蚀刻对介电常数和信号完整性影响。
6.高密度互连板蚀刻:微小线宽和高纵横比,重点测试分辨率、缺陷率和电气性能。
7.金属基板蚀刻:如铝基板,用于散热要求高场景,测试蚀刻均匀性与热管理性能关联。
8.陶瓷基板蚀刻:应用于高功率设备,检测蚀刻工艺对陶瓷基材兼容性和机械强度。
9.厚铜板蚀刻:铜层厚度较大,需验证蚀刻速率、均匀性和侧蚀控制,避免过度蚀刻。
10.特殊材料板蚀刻:如复合材料或生物可降解基材,定制检测方案以适应材料特性。
检测标准
国际标准:
IPC-6012、IPC-4101、IPC-4562、IEC 61189、IPC-TM-650
国家标准:
GB/T 4721、GB/T 4722、GB/T 4723、GB/T 4677、GB/T 4588
检测设备
1.光学显微镜:用于放大观察蚀刻后线路微观结构,识别缺陷和测量尺寸,提供直观质量测试。
2.扫描电子显微镜:提供高分辨率图像,分析蚀刻表面形貌、裂纹和剥落现象,深入理解失效机制。
3.轮廓仪:测量线路高度、宽度和表面粗糙度,生成三维形貌数据,关联工艺参数。
4.X射线荧光光谱仪:非破坏性检测铜层厚度和元素成分,确保蚀刻深度符合规范。
5.剥强度测试机:通过施加剥离力,量化铜层与基材结合强度,测试界面可靠性。
6.线宽测量仪:自动或半自动系统,精确测量蚀刻后线路宽度,减少人为误差。
7.蚀刻速率测试仪:实时监控蚀刻过程,记录时间-厚度曲线,计算蚀刻速度并优化工艺。
8.环境试验箱:模拟高温、低温、湿热等环境条件,测试蚀刻性能长期稳定性。
9.化学分析仪:如离子色谱仪,检测蚀刻液成分和板面残留物,控制化学污染。
10.自动光学检测系统:高速扫描整个板面,利用图像处理算法识别缺陷,提高检测效率。
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.
合作客户(部分)
1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;
2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;
3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;
4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。