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碳酸丙烯酯检测

原创
关键字: 碳酸丙烯酯测试范围,碳酸丙烯酯测试仪器,碳酸丙烯酯测试标准
发布时间:2025-06-16 17:33:34
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检测项目

纯度分析:

  • 主成分含量:碳酸丙烯酯≥99.95%(GC-FID法,参照GB/T21844)
  • 有机杂质:碳酸乙烯酯≤0.02%、丙烯醇≤50ppm
痕量杂质:
  • 金属离子:钠≤5ppb、铁≤10ppb(ICP-MS法)
  • 阴离子:氯离子≤0.5ppm、硫酸根≤1ppm(离子色谱法)
物理性能:
  • 密度:1.204-1.210g/cm³(25℃,GB/T4472)
  • 折光率:1.421-1.424(20℃,ASTMD1218)
  • 水分:卡尔费休法≤50ppm(GB/T6283)
电化学特性:
  • 氧化电位:≥5.0Vvs.Li/Li⁺(线性扫描伏安法)
  • 电导率:≤0.5μS/cm(25℃)
热稳定性:
  • 热分解温度:≥220℃(TGA法)
  • 闪点:≥132℃(闭杯法,ISO3679)
溶剂残留:
  • 甲醇≤10ppm、丙酮≤5ppm(顶空-GC法)
光学性能:
  • 透光率:≥95%(400nm)
  • 色度:≤10APHA(铂钴法,GB/T3143)
酸碱度:
  • 酸值:≤0.01mgKOH/g(电位滴定法)
不挥发物:
  • 残留量≤0.001%(105℃恒重法)
毒理指标:
  • 重金属总量≤5ppm(比色法)
  • 砷含量≤0.5ppm(原子荧光法)

检测范围

1.锂电池电解液溶剂:重点检测金属离子含量及电化学稳定性

2.工业脱硫溶剂:监控酸值、密度及热分解特性

3.聚碳酸酯合成原料:控制氯离子及醇类杂质含量

4.涂料稀释剂:测定挥发性溶剂残留及色度

5.医药中间体:强化毒理指标及有机杂质检测

6.电子清洗剂:侧重不挥发物及粒子含量分析

7.气相色谱载液:要求99.99%纯度及紫外吸光度检测

8.燃料电池电解质:检测离子迁移数及电化学窗口

9.科研试剂:全指标符合ACS标准

10.电容器电解液:控制水分及电导率参数

检测方法

国际标准:

  • ISO1388-7:1981工业醇类-碳酸酯含量测定
  • ASTME203-23卡尔费休水分测定
  • IEC62321-8:2017金属杂质ICP-MS检测
国家标准:
  • GB/T21844-2022有机化工产品气相色谱分析通则
  • GB/T6283-2023化工产品水分测定
  • GB/T3049-2021液体化工产品酸度测定
方法差异说明:ISO1388-7采用内标法定量,GB/T21844允许外标法;ASTME203规定水当量标定频率高于GB/T6283。

检测设备

1.气相色谱仪:Agilent8890B(FID检测器,检出限≤0.1ppm)

2.离子色谱仪:ICS-6000(阴离子检出限≤1ppb)

3.电感耦合等离子体质谱仪:NexION2000(质量范围2-290amu)

4.卡尔费休水分仪:917Coulometer(测量范围0.001%-100%)

5.电位滴定仪:G20S(精度±0.002mL)

6.紫外分光光度计:UV-2600i(波长范围185-900nm)

7.热重分析仪:TG209F3(温度精度±0.1℃)

8.电化学工作站:CHI760E(扫描速度0.001-1000V/s)

9.密度折光仪:DMA4500M(密度精度±0.0001g/cm³)

10.原子荧光光谱仪:AFS-8520(砷检出限≤0.01ppb)

11.顶空进样器:HT3(温度精度±0.1℃)

12.激光粒度仪:Mastersizer3000(检测范围0.01-3500μm)

13.恒温恒湿箱:SH-241(温度范围-70℃~150℃)

14.超纯水系统:Milli-QIQ7000(电阻率18.2MΩ·cm)

15.电子天平:CPA225D(称量精度0.01mg)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师.

合作客户(部分)

1、自创办以来和政、企、军多方多次合作,并获得众多好评;

2、始终以"助力科学进步、推动社会发展"作为研究院纲领;

3、坚持科学发展道路,统筹实验建设与技术人才培养共同发展;

4、学习贯彻人大精神,努力发展自身科技实力。

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