谱片放大机检测

检测项目

光学放大倍率误差：±0.5%以内（10X-1000X范围）

光源均匀性偏差：≤3%（CIE 1976标准色度空间）

机械振动幅值：≤0.2μm（频率范围5-200Hz）

温度漂移补偿精度：±0.1℃/h（20-40℃工作区间）

图像畸变率：≤0.15%（TV畸变测试法）

检测范围

半导体晶圆微结构放大成像系统

金属材料晶粒度分析用放大设备

高分子材料表面形貌观测系统

生物医学切片数字化放大装置

光学薄膜涂层厚度测量仪

检测方法

ASTM E1951-14：光学系统分辨率标准测试规程

ISO 14978:2018：几何量测量设备通用检测规范

GB/T 26141-2010：数字成像系统计量特性评定方法

ISO 9039:2019：光学系统图像畸变测定方法

GB/T 19863-2005：显微物镜放大率测试规范

检测设备

Olympus BX53M工业显微镜：配备20X-100X平场消色差物镜，支持微分干涉对比成像

Keyence VHX-7000数字显微镜：搭载4K CMOS传感器，最高放大倍率5000X

Mitutoyo LSM-9000激光扫描测微仪：测量精度±0.05μm，扫描速度200mm/s

Jenoptik ProgRes GT2高分辨率CCD：像素尺寸2.2μm，量子效率>75%@550nm

蔡司Axio Imager.A2m偏光显微镜：配置EC Epiplan物镜，支持透反射双模式观测

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.