正抗蚀剂检测

检测项目

1.膜厚均匀性：测量正抗蚀剂涂覆厚度偏差值（5nm），采用多点扫描法测试基片全域一致性

2.附着力等级：通过划格法测试抗蚀剂与基材结合强度（ASTMD3359标准分级0-5B）

3.灵敏度特性：测定临界曝光能量阈值（E₀值），单位mJ/cm

4.分辨率极限：测试最小可解析线宽（≤0.1μm）及线边缘粗糙度（LER≤3nm）

5.抗蚀剂残留量：显影后残留物质量比检测（≤0.5%）

检测范围

1.I-line/KrF/ArF光刻胶：适用于365nm/248nm/193nm波长曝光系统

2.化学放大抗蚀剂：含PAG光酸发生剂的先进光刻材料

3.PCB干膜抗蚀剂：线宽精度≥25μm的电路板制造材料

4.MEMS结构层材料：用于微机电系统三维结构成型

5.显示面板用彩色抗蚀剂：RGB三色滤光片制备材料

检测方法

1.膜厚测量：ASTMF533-15标准椭偏仪法/台阶仪法

2.附着力测试：GB/T9286-2021划格法结合显微镜观测

3.灵敏度分析：ISO14606:2018曝光能量梯度测试法

4.显影特性测试：SEMIP35-1103动态显影速率测定规程

5.耐蚀刻测试：GB/T16526-1996等离子体腐蚀耐受时间测定

检测设备

1.J.A.WoollamM-2000D光谱椭偏仪：波长范围190-1700nm，膜厚分辨率0.1

2.BrukerDektakXT台阶仪：垂直测量精度0.5nm，扫描长度55mm

3.HitachiSU5000场发射扫描电镜：分辨率1.0nm@15kV，LER测量模块

4.SUSSMicroTecMA8掩模对准仪：曝光能量控制精度1%

5.ThermoScientificARLEQUINOX3000X射线衍射仪：晶体结构分析功能

6.Agilent5500原子力显微镜：三维形貌重建精度0.1nm

7.MalvernPanalyticalZetasizerNanoZSP：动态光散射粒径分析仪

8.KLATencorP-17表面轮廓仪：接触式粗糙度测量Ra≤0.01μm

9.ShimadzuUV-3600iPlus分光光度计：光学密度测量范围8Abs

10.VeecoDimensionIconPT原子力显微镜：PeakForceTapping模式纳米力学测试

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

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