半导体纯度测试

检测项目

1.主成分含量测定：主元素含量、有效成分含量、纯度水平、杂质扣除后净含量。

2.金属杂质分析：钠、钾、钙、铁、铜、镍、铬、铝等痕量金属杂质。

3.非金属杂质分析：硫、磷、氯、氟、碳、氧、氮等非金属杂质含量。

4.离子污染检测：阴离子残留、阳离子残留、可溶性离子总量、表面离子污染。

5.颗粒污染检测：颗粒数量、粒径分布、大颗粒比例、颗粒洁净度。

6.痕量水分检测：水分含量、痕量水、吸附水、游离水。

7.有机残留分析：总有机杂质、挥发性有机残留、非挥发性有机残留、表面有机污染。

8.气体纯度分析：主体气体含量、痕量杂质气体、氧含量、水含量、烃类杂质。

9.表面洁净度检测：表面残留物、表面颗粒、表面金属污染、表面膜层污染。

10.化学品纯度检测：酸类纯度、碱类纯度、溶剂纯度、蚀刻液纯度。

11.固体材料纯度检测：硅材料纯度、靶材纯度、石英材料纯度、陶瓷材料纯度。

12.挥发性杂质检测：低沸点杂质、挥发性组分、分解产物、逸散性污染物。

检测范围

半导体硅片、硅棒、硅粉、电子级多晶硅、单晶硅材料、光刻胶原料、显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、抛光液、电子级酸、电子级碱、电子级溶剂、高纯气体、混合工艺气体、溅射靶材、石英器件、陶瓷部件、晶圆承载盒

检测设备

1.电感耦合等离子体质谱仪：用于痕量金属元素分析，适合多元素同时测定，检出能力高。

2.电感耦合等离子体发射光谱仪：用于中高含量元素测定，适合原料及化学品中多元素分析。

3.离子色谱仪：用于阴离子和阳离子残留检测，适合离子污染与可溶性离子分析。

4.气相色谱仪：用于挥发性杂质和有机残留分析，适合溶剂及气体样品检测。

5.液相色谱仪：用于非挥发性有机杂质分离分析，适合复杂化学品成分检测。

6.粒子计数器：用于液体或气体中颗粒数量及粒径分布测定，测试洁净水平。

7.水分测定仪：用于痕量水分检测，适合高纯化学品、气体及固体材料中的水含量分析。

8.总有机碳分析仪：用于总有机污染物测定，测试液体样品中有机杂质水平。

9.傅里叶变换红外光谱仪：用于官能团识别和残留物定性分析，适合有机污染物筛查。

10.表面分析仪：用于表面元素组成、污染分布及表面洁净状态测试，适合材料表征。

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.